设备参数：
操作压力：1.0mpa（mpa）
水电阻率：18mω·cm
出水量：500l/h
外形尺寸：160*100*160（cm）
电压：380（v）
水质：0.55
功率：380（w）
电导率：0.06
脱盐率：99.999（%）
超纯水设备是既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。因此水的质量相当重要。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、2mω.cm、0.5mω.cm，以区分不同水质。
edi高纯水设备作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2mω.cm。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用高纯水。
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